GBT 36306-2024洁净室及相关受控环境空气化学污染控制技术要求

2025-7-24

国家市场监督管理总局与国家标准化管理委员会联合发布的GB/T 36306-2024《洁净室及相关受控环境空气化学污染控制技术要求》，于2024年3月15日正式公布，并将于2024年10月1日起实施。本标准替代了2018年版国标，针对电子半导体、生物制药、精密制造等高端产业的洁净环境化学污染控制体系进行了全面升级，为设计、建造、验收和运行维护提供科学规范。

核心管控对象与技术难点

该标准聚焦传统高效过滤器无法截留的气态化学污染物，其分子尺寸仅0.1nm～3nm，以蒸气形态存在。这类污染物来源复杂，既包括室外大气中的硫氧化物、氮氧化物，也涵盖室内工艺气体释放、建材挥发及人员活动产生的有机化合物。其浓度易受温湿度波动影响，常规粒子计数器无法检测，对微电子良品率、药品无菌性构成重大威胁。

标准核心内容框架

1. 全过程污染控制体系

设计阶段：强制要求洁净室选址远离化工区、交通枢纽等污染源；工艺布局需隔离高污染设备并设置负压梯度；新风机组和FFU必须配置化学过滤器，且明确滤布面积与使用寿命指标。
施工阶段：建立建筑材料送检制度，实施施工区域化学污染物动态监测，强化围护结构密封性管控。
运行维护：制定化学污染物监测警戒限值，规范过滤器更换流程，并要求关键区域部署在线监测系统。

2. 创新性技术方法

检测技术库：整合8类实验室方法，包括离子色谱法（IC）、电感耦合等离子体-质谱法（ICP-MS）、热脱附气相色谱/质谱联用法（TD-GC-MS）。
在线监测体系：针对无机酸、有机碱、活性硫化物等不同污染物，匹配光腔衰荡光谱法（CRDS）、质子转移反应质谱法（PTR-MS）等实时监测技术，实现污染源快速溯源。

3. 行业差异化适配

通过配套资料性附录，为不同行业提供定制化方案：

电子半导体行业：参照国际器件与系统路线图（IRDS）数据设定晶圆加工区污染物阈值。
制药GMP车间：重点监控微生物代谢产物及消毒剂残留气体。
食品清洁作业区：强化有机酸类污染物的控制要求。

相较于2018版的核心升级

术语体系重构：删除“空气分子污染”等模糊概念，新增“按化学物浓度划分空气洁净度（ACC）”“释出气体”等可量化定义。
控制重心转移：从污染事后处置转向全过程防控，新增设计规范、施工管控及在线监测条款。
能效协同管理：要求化学过滤器选型兼顾污染物去除效率与运行能耗，推动绿色洁净室建设。

实施价值与应用场景

该标准落地后，企业可实现三大核心效益：一是通过源头控制降低晶圆氧化缺陷、药品染菌等风险，提升高附加值产品良品率；二是依托在线监测数据优化过滤器更换周期，减少过度维护成本；三是以标准化评价体系通过国内外客户审计，增强高端制造领域的市场竞争力。对于新建洁净室项目，需在设计阶段即植入化学污染控制模块；现有设施则需在过渡期内完成监测系统加装与控制策略修订。